俄称自行开发光刻机将于2028年问世可产出7纳米芯片

据台湾媒体报道，俄罗斯科学院夸口说，2028年将出一款自主研发的光刻机，可生产7纳米芯片。

据报道，国际制裁切断俄罗斯供应后，造成俄罗斯芯片短缺此外，美国，英国和欧盟也提出了一些制裁措施几乎所有先进的晶圆制造商都停止了与俄罗斯实体的合作，ARM也无法将他们的技术授权给俄罗斯芯片设计师

为此，俄罗斯政府推出国家计划，希望在2030年研发出28 nm工艺，希望对国外芯片进行逆向工程，培养本土半导体人才。

可是，由于国际制裁，美国和欧洲的半导体设备制造商无法向俄罗斯供货如果俄罗斯推广28nm工艺，就必须设计研发国产设备可是，像ASML和蔡颖这样的公司需要几十年的发展，更新迭代必须在8年左右完成

可是，俄罗斯似乎一点也不担心俄罗斯诺夫哥罗德战略发展研究所大胆表态，声称俄罗斯科学院下属的应用物理研究所将打破所有人的眼镜，在2028年研发出能够生产7纳米芯片的掩模对准器，也能打败ASML同类产品

俄罗斯科学院纳米结构研究所副所长表示，ASML作为全球光刻机的领导者，近20年来一直致力于EUV曝光机，目标是保持世界顶级半导体制造商极高的生产效率但是俄罗斯不需要，只要按照俄罗斯国内的需求往前走就行了

报道称，俄罗斯的想法似乎太天真了俄罗斯在6年内研发出能够支持7 nm芯片的光刻机是不可行的而且晶圆厂不仅能生产光刻机中的芯片，还需要很多设备，俄罗斯不生产